Genki XP平台进一步推动了高能量高功率皮秒激光器的工业化。该系统基于超稳定的Genki种子激光器，能提供短于10ps的清洁脉冲，这是许多微加工应用的最佳脉冲持续窗口。

为了满足皮秒激光工作站日益增长的需求，Genki XP经过优化，能在1064nm的工业标准波长条件下，提供高达100W的平均功率和300μJ的脉冲能量。激光器可以定制，工作在更低的重复频率和更高的能量，或几MHz跟随高速自动化过程。

Genki XP专为简单且具有成本效益的系统集成而设计，可以任意方向安装，并提供完全的远程控制功能。

主要特性：10ps脉冲持续时间；突发模式；卓越的能量和指向稳定性；可任意方向安装；免维护，不需要对齐。

主要应用领域包括材料加工、玻璃和蓝宝石切割、等离子体生成及非线性光学等。

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