近日，中科院合肥研究院安光所激光中心准分子激光团队在氟化钙(CaF2)晶体的准分子激光诱导损伤方面取得新进展，相关结果发表在Applied Surface Science等期刊。

CaF2晶体是紫外光学系统中的重要元件，尤其在半导体光刻系统中，CaF2晶体直接影响了系统的稳定性和寿命，因此研究CaF2晶体的抗激光损伤能力在半导体光刻、光电对抗等应用领域具有重要意义。鉴于此，团队梁勖研究员和邵景珍副研究员利用自研的193 nm和248 nm深紫外准分子激光，对CaF2晶体开展了激光诱导损伤研究。通过分析CaF2晶体晶面、解理面和滑移面三者之间的关系，总结了248 nm准分子激光对CaF2晶体(111)、(110)和(100)三个不同晶面的损伤机制。同时，在193 nm准分子激光辐照下，CaF2晶体表面形成了激光诱导周期性条纹结构（LIPSS），该结构的形成对CaF2晶体表面的激光微处理具有重要的指导意义。

上述研究工作得到中国科学院科研仪器设备研制项目、国家自然科学基金、中科院青年创新促进会及脉冲功率激光技术国家重点实验室开放基金等项目的支持。

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