通快公司投资7000万欧元建设一幢新大楼，供工程师为半导体芯片制造商开发新一代极紫外(EUV)光刻设备所需的超高功率激光器。

　　在产生极紫外光的各种光刻工具里，激光器发挥重要作用。高度复杂和昂贵系统的商业部署多年以来遭到拖延并一直受到极大怀疑。然而，ASML公司在4月份宣布15台系统的大订单似乎确认了EUV光刻的可行性，而且这家荷兰公司的最新预测表明明年会部署12台，到2017年部署24台，2018年部署48台。

　　通快公司说建造面积达34000平方米的场地将花费两年时间，半导体制造子公司为专门的激光器系统开始生产超大放大器之后将串联四台大功率激光器。

　　“我们正在开发生产独特而复杂的激光系统，而且在德国提供高科技工作。”据说7000万欧元投资包括建设成本以及超洁净要求很高的带有自动化功能的复杂楼宇。多层厂房包括生产区、无尘室和设备检测区域，同时相邻的办公大楼还有270个工作岗位。

　　通快公司最新年度报告中明确列出了EUV光源的复杂度，该公司指出随着峰值功率超过兆瓦，向锡滴打靶的重复频率达到50000Hz是必要的。激光器要以极高的精确度击中锡滴，要确保EUV光源功率足够稳定才能满足ASML芯片制造客户的苛刻要求，像英特尔，三星和台积电代工厂。德国公司把这种挑战比拟成“高科技野外飞靶射击”。

　　公司还描述了如何将几台13kW CO2激光器串联接通达到所需的功率要求，最终从等离子体源产生100W的EUV光输出。高科技产生极紫外光的过程非常低效，过去被人们比拟为“用核反应堆提供动力”，但也成为了满足半导体工业批量生产要求扩展EUV输出功率的唯一可行方式。

　　通快公司是唯一一家能够供应支撑EUV用激光器的厂商，如果按ASML预言的发展商业前景利润丰厚。在2013-2014财政年度，通快公司称EUV应用已经远远超过8.41亿欧元销售额的10%。